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氣相色譜出現(xiàn)“N“ 或 “W”峰及舌頭峰的原因

更新更新時(shí)間:2021-11-17

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  一、"N" 或 “W”峰出現(xiàn)的原因
 
  1、TCD操作,用N2作載氣由于熱傳導(dǎo)率非線性引起;
 
  2、FID操作時(shí),樣品溶劑電離效率低(如CS2),或氣流比欠佳時(shí);
 
  3、ECD操作時(shí),由于檢測器被污染,溶劑峰或待測組分含量較高,或脈沖電源有毛病。
 
  二、舌頭峰(前延峰)出現(xiàn)的原因
 
  1、汽化溫度偏低;
 
  2、載氣流量?。?br /> 
  3、進(jìn)樣量大,汽化時(shí)間長;
 
  4、汽化室被污染,樣品有吸附效應(yīng);
 
  5、樣品在柱頭有冷凝或色譜柱被污染;
 
  6、進(jìn)樣技術(shù)差(揮發(fā)性組分的進(jìn)樣速度太慢);
 
  7、峰前出現(xiàn)了“鬼”峰。